大学化学 >> 2000, Vol. 15 >> Issue (6): 57-57.

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以共聚物为模板的纳米光刻术

宋琦   

  • 发布日期:2000-11-15

以共聚物为模板的纳米光刻术

宋琦   

  • Published:2000-11-15

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摘要： Princeton大学的M. Park和P. M. Chaikin等利用在共聚物薄膜中通过自装配作用形成的有序微畴作为侵蚀的掩模的方法 ,在氮化硅基本上印上致密的、纳米尺寸的孔和点的周期性阵列。在每cm2 上有 10 11个部件。它的用途可能很多 ,包括制成高密度磁记录器件。在双嵌段共聚物中的聚合物链有向相似链迁移的倾向 ,因而生成许多单一聚合物的微畴。例如在聚苯乙烯 聚丁二烯体系中 ,在聚苯乙烯基质中可自发地生成呈六方排列的聚丁二烯球。